本套設(shè)備用于光刻膠調(diào)膠、二次配膠、加熱、輸送過(guò)濾、溶劑回收工藝。

　　光刻膠英文名為resist，又名抗蝕劑。作用就是作為抗刻蝕層保護(hù)襯底表面。光刻膠只是一種形象的說(shuō)法，因?yàn)楣饪棠z從外觀上呈現(xiàn)為膠狀液體。

　　光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當(dāng)紫外光或電子束透過(guò)電路模板照射時(shí)，光刻膠固化形成保護(hù)層，覆蓋需要行程電路的基材，經(jīng)過(guò)藥水溶解后，曝光的固化膠留在襯底表面，這樣就將設(shè)計(jì)的微納結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到了光刻膠上，而后續(xù)的刻蝕、沉積等工藝，就可進(jìn)一步將此圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠下面的襯底上，再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。